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技术的变革需要创新精神，更依赖创新者之间的合作。Alan Weimer 与 Steve Geogre 两位教授自本世纪初起的合作，造就了全新的粉末工程加工技术：PALD（粉末原子层沉积）。而由此衍生的两家 ALD 技术公司 ALD Nanosolutions 以及 Forge Nano （二者在 2020 年完成合并）已经成为全球最大的粉末 ALD 技术推行者，实现从克级到千吨级的粉末表面保形涂层加工。
原子层沉积技术可通过交替式的通入气相前驱体，从而实现基底表面可控的涂层材料原位生长。而如何对大规模的粉末材料进行 ALD 包覆，则是行业内的难题。Forge Nano 通过多年的技术积累，是目前全球唯一掌握解决方案的企业。
氢能源对于实现 2050 年气候目标和能源转型至关重要。来自荷兰 TU Delft 的衍生公司 VSPARTICLE 开发了一种更为经济、可持续和简单的气溶胶打印绿色制氢方案。从而加速大规模氢生产的研发与生产效率。同时，这项革命性技术还可以为其他领域的研究提供了新的思路。
本文将介绍 SDL 的重要性以及推动其发展的突破性举措。我们还解释了 VSParticle 技术如何为未来的 SDL 发展提供可重复的试验方案。此外，本文将探讨去中心化和开源的相关性，以及这些概念如何彻底改变材料开发的效率。
增材制造的方法，如纳米打印可以大大简化高比表面积的纳米多孔薄膜的制备工艺。这种薄膜材料的应用很多，包括电催化、化学、光学或生物传感以及电池和微电子产品制造等。
原子层沉积技术（ALD）是一种自限制性的化学气相沉积手段，通过将目标反应拆解为若干个半反应，实现表面涂层的原子层级厚度控制（0.1-100nm）。
