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原子层沉积（ALD）凭借自限制表面反应实现原子级厚度控制、优异保形性与大面积均匀性，已成为先进半导体、光伏、显示、储能等领域的关键薄膜工艺。然而，传统时序型 ALD（temporal ALD）依赖真空腔体、脉冲通气与长时吹扫，沉积速率低、设备成本高、难以实现大面积连续化生产，严重制约其在光伏、柔性电子、动力电池等大面积、高通量、低成本刚需场景的规模化应用。
研究提出一种基于火花烧蚀打印（VSP-G1 纳米颗粒发生器）的一步法策略，同步完成 SMO 纳米颗粒的合成与沉积，直接集成纯相及贵金属修饰材料，实现 ppb 级检测极限与优异的器件一致性，并为多材料阵列与机器学习结合提供可行路径。
本文作者借助 DENSsolutions 原位加热杆，在400°C高温下通过 STEM 实时追踪了阳离子沿范德华间隙扩散驱动表面重构的动态过程。
