Global·CN
CN EN
VSParticle Nanoparticle Generator and Printer System
VSParticle 纳米颗粒制备&印刷沉积系统
VSParticle 通过独特的火花烧蚀技术进行纳米材料制备及印刷沉积,可生成粒径可控的纳米颗粒,同时提供定制化的纳米颗粒印刷沉积方案。
VSParticle 纳米颗粒制备及印刷沉积系统
Spark Ablation Aerosol Deposition Technology
火花烧蚀纳米气溶胶沉积技术
  • 01 纳米气溶胶生长原理
  • 02 火花烧蚀制备的类型
  • 03 纳米气溶胶沉积方式

气溶胶是指悬浮在气体介质中的固态或液态颗粒所组成的气态分散系统。

火花烧蚀技术利用火花放电技术原理,在曲率不大的电极材料(靶材)两端施加高压,从而击穿不导电介质形成持续的放电,因为火花放电伴随着低功率爆发式的能量输出,电极材料在烧蚀作用下会迅速蒸发(闪蒸)成为原子,并逐渐冷凝长大成为颗粒,颗粒分散在惰性气体氛围中形成纳米气溶胶。


纳米气溶胶沉积原理

纳米气溶胶沉积系统使用火花烧蚀方法,可以合成超过60种元素的金属单质,氧化物,合金,半导体,碳材料以及混合物材料在内的多种纳米材料。



纳米气溶胶沉积系统制备类型

火花烧蚀技术制备纳米气溶胶的同时,可与其他气溶胶相关仪器及材料研究系统联用,通过单分散颗粒、纳米负载、尺寸筛选、图案打印等气溶胶沉积方式收集纳米颗粒。




纳米气溶胶沉积方式

Characteristics of Nano-aerosol Deposition Technology for VSParticles
VSParticle的纳米气溶胶沉积技术特点
  • 纳米气溶胶沉积技术特点:动力学尺寸 0-300nm
    动力学尺寸 0-300nm
    初始粒径:0-20nm
  • 纳米气溶胶沉积技术特点:可重现,尺寸可调
    可重现,尺寸可调
  • 纳米气溶胶沉积技术特点:任何导电材料
    任何导电材料
  • 纳米气溶胶沉积技术特点:快捷且便于使用
    快捷且便于使用
  • 纳米气溶胶沉积技术特点:清洁
    清洁:无表面活性剂
    或前驱体
Full-Automatic Nanometer Deposition Platform
全自动纳米沉积平台
Scope of Application
应用范围
Research
研究成果
火花烧蚀技术于 1988 年由 VSParticle 的联合创始人安德烈斯·施密特-奥特 (Andres Schmidt-Ott) 首次提出,如今使用该项技术所获得的研究成果已获得业界广泛认可。
View More
Online Message
在线留言

如果您想要了解更多产品信息、预约测样或者咨询售后服务,欢迎您拨打我们的热线电话 400 857 8882 或者在线给我们留言, 我们收到您的留言信息后将第一时间回复您。

  • *
  • *
  • *
  • *