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通过原位透射电子显微镜研究了锥形InAs纳米线(NWs)的电学性能,同时使用良好的欧姆接触进行I-V测量,从而排除了高电阻率接触引起的焦耳加热等实验干扰因素。在低电压下,直径大于120 nm的InAs NWs电阻率是恒定的(~ 10−2 Ω·cm)。当电流增大时,靠近阴极侧发生纳米线击穿,其主要变化是In的电迁移和As的升华。在大多数情况下,击穿临界电流密度接近106 A·cm−2。据此,作者提出了击穿过程的焦耳加热电迁移机制。
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