SparkNano Spatial ALD
空间原子层沉积是传统原子层沉积 (ALD) 技术的一种变体。传统的 ALD 是一种基于时间顺序和循环的工艺，需要按照受控顺序将基底反复暴露于不同的前驱体气体中；而空间 ALD 则利用了这些前驱体暴露在空间上的分离。在空间 ALD 中，前驱体在空间上是物理分离的，而不是按顺序引入的。
传统原子层沉积（ALD）技术具有诸多优势，包括优异的保形性、对薄膜成分、厚度和均匀性的精确控制，以及在多种基底上沉积高质量薄膜的能力。这些特性使得ALD技术特别适用于需要精确控制薄膜性能的应用，例如半导体行业，同时也适用于下一代电解槽、燃料电池、电池和太阳能电池等。 然而，传统原子层沉积技术在这些应用中面临的挑战是：
ALD沉积速度较慢，可能需要数小时才能完成沉积
ALD对昂贵的原料利用效率低下
很难将生产规模扩大到大尺寸基材和卷对卷生产
它需要在真空环境下进行，这使得在大型柔性衬底上进行原子层沉积（ALD）工艺复杂且成本高昂
如果您想要了解更多产品信息、预约测样或者咨询售后服务，欢迎您拨打我们的热线电话 400 857 8882 或者在线给我们留言, 我们收到您的留言信息后将第一时间回复您。
